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6英寸匀胶显影机 标准型 ACD6 COATER&DEVELOPER

  • 详细描述
设备配置 2C2D、4C、4D
设备产能 180WPH
衬底材质 Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等
线宽 ≥0.35um
适用工艺 G-line、i-line、PI 
应用领域 MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、LED、科研等
技术特征 设备采用高速机械手、产能高,稳定性好;
配置有RRC功能,光刻胶4寸用量可控制在0.6ml;
设备故障、生产工艺参数等记录等可长期保存备查;
光刻胶采用精密计量泵供应,精度高,供液稳定,出胶量设定方便;
可做两种尺寸完全兼容,不需要更换零件;
可选配光刻胶显影液温控, HMDS等单元部件。
设备尺寸 1650*1450*2040mm(W*D*H)